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型號 | 臥式型 | LP-430U | LP-420S9U | LP-410U |
立式型 | LP-430TU | LP-420S9TU | LP-410TU | |
刻印雷射(註1) | CO2雷射 4級雷射產品 | |||
平均輸出 | 30W | 20W | 10W | |
波長 | 10.6μm | 9.3μm | 10.6μm | |
導向雷射 ・指示器 | 半導體雷射 λ=655nm 2級雷射產品 | |||
刻印範圍 | 110×110mm | |||
與工件的距離(註2) | 185mm | |||
掃描速度 | 最大12000mm/s | |||
對應生產線速度(註3) | 240m/分以下 | 170m/分以下 | ||
字符設定 (字符高度、寬度) |
0.1 ~ 110mm(可設定0.001mm的間隔) | |||
刻印間隔 (字符間隔、行間隔) |
0~110mm(可設定0.001mm的間隔) 扇狀:-180°〜+180°(可設定0.01°的間隔) |
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字符排列 | 直線狀、成比例、均勻配置、扇形 | |||
字符種類 | 英文大寫、英文小寫、數字、片假名、平假名、 漢字(JIS第一•第二水準)、符號、 使用者註冊字符(可設定50種) |
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條碼 | CODE39、CODE128、ITF、NW-7、JAN/UPC、GS1 DataBar、GS1 DataBar Limited、GS1 DataBar Expanded | |||
2維編碼 | QR碼、微型QR碼、 SQRC(安全QR碼)(註4)、 資料矩陣、 GS1 數據矩陣 |
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組合碼 | GS1 DataBar CC-A、GS1 DataBar Limited CC-A、GS1 DataBar Expanded CC-A、UCC/EAN COMPOSITE 等 | |||
輸入/輸出埠 | 端子座、I/O連接器 | |||
串列通信介面(註5) | EIA-RS-232C、Ethernet | |||
Logo・圖形 | VEC(註6)/BMP/DXF/HPGL/JPEG/AI(註7)/EPS(註7) | |||
冷卻方式 | 強制空冷 | |||
電源電壓 | 90-132V AC 或 180-264V AC(自動切換)、 50/60Hz |
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消耗 電量(註8) |
100V AC時 | 1000VA以下 | 670VA以下 | |
200V AC時 | 1200VA以下 | 700VA以下 | ||
輸入 | 遠端遙控、觸發信號、編碼器(A)、編碼器(B)、遮光控制、 雷射激發、警報器復位、緊急停止、雷射停止等 |
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輸出 | 電源(+12V)、遠端遙控、刻印準備、刻印、刻印結束、 雷射激發、警告、警報、確定完畢、計數結束 |
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刻印狀態 | 靜止・移動 | |||
功能 | ●刻印順序最佳化 ●交點修正 ●計數刻印 ●當前日期刻印 ●期限刻印 ●批量刻印 ●標識數據刻印 ●製作•編輯字體 ●均等配置 ●顯示運轉畫面的更新 ●系統偏移 ●設定通用字符 ●導向雷射 ●雙向指示器 ●調整焦點 ●重複印字 ●備份 ●移動體長尺寸刻印 ●選擇字體 ●粗體字刻印 ●成比例刻印 ●顯示刻印圖像 ●測量刻印時間 ●顯示刻印物件圖像 ●調整操作人員 ●設定行•標識檔單位的功率•速度 ●步進和重複 ●調整操作人員 ●排序刻印 ●I/O模擬 ●保持時間 ●偏移刻印 ●I/O檢查顯示 ●顯示出錯履歷 |
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緊急停止開關 | 配備在控制器上 | |||
使用環境溫度(註9) | 0〜+40℃(保存時-10〜+60℃)(注意不可結露、結冰) | |||
使用環境濕度(註9) | 35〜85%RH(注意不可結露、結冰) | |||
重量 | 臥式雷射頭 | 20kg | 16kg | |
立式雷射頭 | ||||
控制器 | 12kg | 11kg |
(註1): | 單台雷射發振器的輸出功率。 |
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(註2): | 與工件間的距離,每個產品有約±2mm的差異。 |
(註3): | 因工件而異。 |
(註4): | 選配件。 |
(註5): | 2013年3月以後生產的Ethernet有變更。 |
(註6): | VEC是雷射雕刻機專用的影像檔格式。 |
(註7): | 電腦必須已安裝Adobe® Illustrator® 。 |
(註8): | 啟動時的突入電流(代表值)約為40A。(流失時間在10ms以下) |
(註9): | 如果是在使用環境溫度外加以保存的,請使其在使用環境溫度下充分地適應之後再行使用。 |
・有關美國FDA適合品、UL適合品、歐洲CE標誌適合品、出口中國產品事宜,請到營業所諮詢。
型號 | 臥式型 | LP-431U | LP-421S9U | LP-411U |
立式型 | LP-431TU | LP-421S9TU | LP-411TU | |
刻印雷射(註1) | CO2雷射 4級雷射產品 | |||
平均輸出 | 30W | 20W | 10W | |
波長 | 10.6μm | 9.3μm | 10.6μm | |
導向雷射・指示器 | 半導體雷射 λ=655nm 2級雷射產品 | |||
刻印範圍 | 55×55mm | |||
與工件的距離(註2) | 111mm | |||
掃描速度 | 最大6000mm/s | |||
對應生產線速度(註3) | 120m/分以下 | 85m/分以下 | ||
字符設定 (字符高度、寬度) |
0.1~55mm(可設定0.001mm的間隔) | |||
刻印間隔 (字符間隔、行間隔) |
0~55mm(可設定0.001mm的間隔) 扇狀:-180°〜+180°(可設定0.01°的間隔) |
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字符排列 | 直線形、成比例、均勻配置、扇形 | |||
字符種類 | 英文大寫、英文小寫、數字、片假名、平假名、 漢字(JIS第一•第二水準)、符號、 使用者註冊字符(可設定50種) |
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條碼 | CODE39、CODE128、ITF、NW-7、JAN/UPC、GS1 DataBar、GS1 DataBar Limited、GS1 DataBar Expanded | |||
2維條碼 | QR碼、微型QR碼、 SQRC(安全QR碼)(註4)、資料矩陣、 GS1 數據矩陣 |
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組合碼 | GS1 DataBar CC-A、GS1 DataBar Limited CC-A、GS1 DataBar Expanded CC-A、UCC/EAN COMPOSITE 等 | |||
輸入/輸出埠 | 端子座、I/O連接器 | |||
串列通信介面(註5) | EIA-RS-232C、Ethernet | |||
Logo・圖形 | VEC(註6)/BMP/DXF/HPGL/JPEG/AI(註7)/EPS(註7) | |||
冷卻方式 | 強制空冷 | |||
電源電壓 | 90-132V AC 或 180-264V AC自動切換)、50/60Hz | |||
消耗 電量(註8) |
100V AC時 | 1000VA以下 | 670VA以下 | |
200V AC時 | 1200VA以下 | 700VA以下 | ||
輸入 | 遠端遙控、觸發信號、編碼器(A)、編碼器(B)、遮光控制、 雷射激發、警報器復位、緊急停止、雷射停止等 |
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輸出 | 電源(+12V)、遠端遙控、刻印準備、刻印、刻印結束、 雷射激發、警告、警報、確定完畢、計數結束 |
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刻印狀態 | 靜止・移動 | |||
功能 | ●刻印順序優化 ●交點修正 ●計數刻印 ●當前日期刻印 ●期限刻印 ●批量刻印 ●標識資料刻印 ●製作•編輯字體 ●均等配置 ●顯示運轉畫面的更新 ●系統偏移 ●設定通用字符 ●導向雷射 ●雙向指示器 ●調整焦點 ●重複印字 ●備份 ●移動體長尺寸刻印 ●選擇字體 ●粗體字刻印 ●成比例刻印 ●顯示刻印圖像 ●測量刻印時間 ●顯示刻印物件圖像 ●調整操作人員 ●設定行•標識檔單位的功率•速度 ●步進和重複 ●調整操作人員 ●排序刻印 ●I/O模擬 ●保持時間 ●偏移刻印 ●I/O檢查顯示 ●顯示出錯履歷 |
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緊急停止開關 | 配備在控制器上 | |||
使用環境溫度(註9) | 0〜+40℃(保存時-10〜+60℃)(注意不可結露、結冰) | |||
使用環境濕度(註9) | 35〜 85%RH(注意不可結露、結冰) | |||
重量 | 臥式雷射頭 | 20kg | 16kg | |
立式雷射頭 | ||||
控制器 | 12kg | 11kg |
(註1): | 單台雷射發振器的輸出功率。 |
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(註2): | 與工件間的距離,每個產品有約±2mm的差異。 |
(註3): | 因工件而異。 |
(註4): | 選配件。 |
(註5): | 2013年3月以後生產的Ethernet有變更。 |
(註6): | VEC是雷射雕刻機專用的圖像文件格式。 |
(註7): | 要使用[Export Vec]時,需要安裝Adobe® Illustrator® (Windows版)。Adobe® Illustrator®的對應版本請另行進行諮詢。Microsoft及Windows是美國 微軟公司在美國以及其他國家的商標和註冊商標。 |
(註8): | 啟動時的突入電流(代表值)約為40A。(流失時間在10ms以下) |
(註9): | 如果是在使用環境溫度外加以保存的,請使其在使用環境溫度下充分地適應之後再行使用。 |
・有關美國FDA適合品、UL適合品、歐洲CE標誌適合品、出口中國產品事宜,請到營業所諮詢。
型號 | 臥式型 | LP-435U | LP-425S9U |
立式型 | LP-435TU | LP-425S9TU | |
刻印雷射(註1) | CO2雷射 4級雷射產品 | ||
平均輸出功率 | 30W | 20W | |
波長 | 10.6μm | 9.3μm | |
導向雷射・指示器 | 半導體雷射 λ=655nm 2級雷射產品 | ||
刻印範圍 | 160×160mm | ||
與工件的距離(註2) | 262mm | ||
掃描速度 | 最大12000mm/s | ||
對應生產線速度(註3) | 240m/分以下 | ||
字符設定 (字符高度、寬度) |
0.1~160mm (可設定0.001mm的間隔) |
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刻印間隔 (字符間隔、行間隔) |
0~160mm (可設定0.001mm的間隔) 扇狀:-180°〜+180° (可設定0.01°的間隔) |
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字符排列 | 直線形、成比例、均勻配置、扇形 | ||
字符種類 | 英文大寫、英文小寫、數字、片假名、平假名、 漢字(JIS第一•第二水準)、符號、 使用者註冊字符(可設定50種) |
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條碼 | CODE39、CODE128、ITF、NW-7、JAN/UPC、GS1 DataBar、GS1 DataBar Limited、GS1 DataBar Expanded | ||
2維編碼 | QR碼、微型QR碼、 SQRC(安全QR碼)(註4)、 資料矩陣、 GS1 數據矩陣 |
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組合碼 | GS1 DataBar CC-A、GS1 DataBar Limited CC-A、GS1 DataBar Expanded CC-A、UCC/EAN COMPOSITE 等 | ||
輸入/輸出埠 | 端子座、I/O連接器 | ||
串列通信介面(註5) | EIA-RS-232C、Ethernet | ||
Logo・圖形 | VEC(註6)/BMP/DXF/HPGL/JPEG/AI(註7)/EPS(註7) | ||
冷卻方式 | 強制空冷 | ||
電源電壓 | 90-132V AC 或 180-264V AC自動切換)、50/60Hz | ||
消耗 電量(註8) |
100V AC時 | 1000VA以下 | |
200V AC時 | 1200VA以下 | ||
輸入 | 遠端遙控、觸發信號、編碼器(A)、編碼器(B)、遮光控制、 雷射激發、警報器復位、緊急停止、雷射停止等 |
||
輸出 | 電源(+12V)、遠端遙控、刻印準備、刻印、刻印結束、 雷射激發、警告、警報、確定完畢、計數結束 |
||
刻印狀態 | 靜止・移動 | ||
功能 | ●刻印順序最佳化 ●交點修正 ●計數刻印 ●當前日期刻印 ●期限刻印 ●批量刻印 ●標識資料刻印 ●製作•編輯字體 ●均等配置 ●顯示運轉畫面的更新 ●系統偏移 ●設定通用字符 ●導向雷射 ●雙向指示器 ●調整焦點 ●重複印字 ●備份 ●移動體長尺寸刻印 ●選擇字體 ●粗體字刻印 ●成比例刻印 ●顯示刻印圖像 ●測量刻印時間 ●顯示刻印物件圖像 ●調整操作人員 ●設定行•標識檔單位的功率•速度 ●步進和重複 ●調整操作人員 ●排序刻印 ●I/O模擬 ●保持時間 ●偏移刻印 ●I/O檢查顯示 ●顯示出錯履歷 |
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緊急停止開關 | 配備在控制器上 | ||
使用環境溫度(註9) | 0〜+40℃(保存時-10〜+60℃)(注意不可結露、結冰) | ||
使用環境濕度(註9) | 35〜 85%RH(注意不可結露、結冰) | ||
重量 | 臥式雷射頭 | 20kg | |
立式雷射頭 | |||
控制器 | 12kg |
(註1): | 單台雷射發振器的輸出功率。 |
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(註2): | 與工件間的距離,每個產品有約±2mm的差異。 |
(註3): | 因工件而異。 |
(註4): | 可選件。 |
(註5): | 2013年3月以後生產的Ethernet有變更。 |
(註6): | VEC是雷射刻印機專用的影像檔格式。 |
(註7): | 電腦必須已安裝Adobe® Illustrator® 。 |
(註8): | 啟動時的突入電流(代表值)約為40A。(流失時間在10ms以下) |
(註9): | 如果是在使用環境溫度外加以保存的,請使其在使用環境溫度下充分地適應之後再行使用。 |
・有關美國FDA適合品、UL適合品、歐洲CE標誌適合品、出口中國產品事宜,請到營業所諮詢。
PC軟體 | 環境OS |
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Laser Marker Driver & Utility※1 | Microsoft Windows® 10 Pro (32bit/64bit) / 8.1 Pro (32bit/64bit) / 7 Professional (32bit/64bit) SP1 |
※1 | 「Export Vec」的使用中、必須安裝Adobe® Illustrator®9.X~CC2014(18.1)(Windows版)。(※CS6以後支持32位) Microsoft公司已經支持的OS的版本,不在OS對應版本內。 Microsoft及Windows是美國Microsoft Corporation在美國以及其他國家的商標和註冊商標。 |
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